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尊敬的各位业界同仁:

        感谢各位长期以来对华海清科的关注与支持。

        2017年3月14日至3月16日在上海举行的SEMICON China 2017,是半导体行业一年一度的盛会,也是半导体业内各位同仁相互交流学习的大好时机。

        华海清科专注于化学机械抛光(CMP)设备的研发、生产和成套解决方案,非常期待能在SEMICON China与您交流,欢迎您莅临华海清科展台参观指导。
        日期:2017年3月14-16日
        时间:9:00-17:00
        地点:上海新国际博览中心W5馆
        展位号:5745

 

 

        2017年2月24日,天津华海清科机电科技有限公司首台工艺暨第二台化学机械抛光(CMP)设备进入中芯国际。
 
        经过华海清科全体员工齐心协力、夜以继日地辛勤工作,Universal-300 Plus型CMP设备圆满完成了出机前的测试工作,进入中芯国际,正式投入工艺生产。这是首台国产CMP工艺制程设备进入集成电路大生产线,具有重大的里程碑意义。
 
        衷心地感谢长期以来各界朋友对华海清科的大力支持!我们希望在国际国内集成电路产业快速发展的大好形势下,华海清科紧紧抓住机遇,实现跨越式发展。华海清科人始终坚信,我们的设备一定能以优秀的品质、卓越的服务赢得国内外用户的信赖。CMP中国制造,来自天津华海清科!
 
 

        2017年2月17日,国家自然科学基金“纳米制造的基础研究”重大研究计划指导专家组专家卢秉恒院士、雒建斌院士、顾长志研究员,国家自然科学基金委员会工程科学二处主任赖一楠、刘磊,以及纳米精度制造领域的有关同行专家莅临华海清科,对以清华大学为依托单位所承担的集成项目“亚纳米精度表面制造基础研究”,进行了实地考察与指导交流。

        在清华大学路新春教授带领下,专家组一行先后来到万级调试车间和千级洁净间,参观了正在整机调试的Universal-300型化学机械抛光机、正在出机前测试的Universal-300 plus型化学机械抛光机、Universal -150小型抛光机,以及其他自研仪器设备。